这就好比冲洗照片的时候，利用底片将影像复制在相片。

所以，光罩要尽可能的没有瑕疵。

否则生产出来的成品芯片，就会出现一定程度的不良率。

一般来说，光罩是由石英玻璃、金属铬、感光胶这三种材质构成的。

用石英玻璃作为底衬、在面镀一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料。

然后再把已经设计好的电路图形，通过电子激光设备，曝光在感光胶。

这样，被曝光的区域，就会产生显影，并在金属铬的面，形成电路图形，成为类似相机底片的光掩膜版。

然后就能成为光刻机当中的一部分了。

这一结构的设计过程，并不算难。

毕竟这三种所需用到的材料，龙国都有。

很快，林凡就设计好了一款可供使用的光罩。

紧接着，林凡就将目光看向了扫描镜。

扫描镜的全名是扫描电子显微镜，是一种介于透射电子显微镜和光学显微镜之间的观察手段。

利用很窄的聚焦高能电子束来扫描样品，通过光束与物质间的相互作用，来激发各种物理信息，对这些信息进行收集、放大之后，再成像，就可以达到对物质进行微观形貌表征的目的。

目前研发的新式扫描镜，分辨率可以达到1纳米！

放大倍数可以达到30万倍，甚至40万倍！

这正是林凡所需要的。

但想要将其用在光刻机，仍需要一点小小的改造。

“好了，这样就可以了。”

林凡将基于新式扫描镜的修改方案，在纸标注清楚之后，又将目光看向了等离子体控制器。

准确的说，这并不是一种固定的装置，而是一种技术。

等离子体反馈控制技术。

这项技术不仅被用在光刻机的研发领域，同样也被用在可控核聚变装置的研发领域！

狭义的托卡马克等离子体反馈控制，涉及到的主要控制对象是等离子体电流，其数值通常在100ka到10ma之间，控制进度在1k左右。

这项技术同时又涉及到三个方面。

一，传感器技术。

二，位形反演和控制算法。

三，执行器技术。

简单来讲，就是对于等离子体电流位置和形状的控制。

一般是采用罗氏线圈、磁探针和磁通环作为传感器。

将其获得到的数据，进行复杂的拟合，以及位形反演。

然后通过实时获得的等离子体的电流位置和形状，与目标值进行比对。