返回第74章 纳米光刻机(二)(1 / 2)穿越就被抓,我拯救华夏芯片首页

也许是受到了廖老的刺激,朱易团队干劲拉满,工件台系统设计完成花了50小时,不到3天时间。

在双工件台完成那刻,朱易长喘口气,总算没给清大丢人,虽然距整机安装完成还有几天时间,至少他们并未拖后腿。

“老师,您都两天没睡了,回去休息下吧,我们在这守着。”朱易的一名学生说道,华卓工件这边来的只有5人,其中两人是朱易带的研究生,另外三人是公司的技术骨干。

看到海思的工作狂人24小时连转,他们自不会被比下去,团队抵达苏硅至今,每天休息时间都不超5小时,朱易教授已经连续48小时未曾合眼了。

“朱总,您跟路总那边谈技术授权的事了吗?只要把苏硅的工件台技术引进,我有信心稳定90纳米的双工件台技术。”华卓的一名研发人员说道。

“说过了,没什么问题,现在优先的是光刻机的事,虽然廖老那边说过只要能运行起来就行,但我们可不能太拉胯,如果误差太大,丢人的还是我们。”

48小时而已,距离他巅峰时期连续一周的记录还很远。

“我们这次是优先保证同步率,误差现在还不好预估,可以确定的是现在这套双工件台系统,比我们原来要好很多。”

朱易认同对方的说法,微微点头,“这次多亏海思与申城微电子的协助,不得不承认,在商业化方面,我们与海思还是有很大差距的,思维上差异更大。”

学院派与企业的差异在这刻体现得淋漓尽致,学院派考虑的是大方向与自主研发差异化,企业讲究的是落地优先,效率至上。

“双工件台”是测量台和曝光台的合称,是承载用来生产芯片的硅片的工作台,光刻机的核心组件之一。

测量台和曝光台,实际是两个形态相同的工作台,两个工作台分别位于测量位置和曝光位置,相互独立且同时运行。

当1号工作台在曝光位置进行步进扫描曝光时,2号工作台在测量位置完成硅片的上下片、三维形貌测量等工作,1号工作台完成硅片的曝光后,两个工作台交换位置和职能,如此循环往复完成硅片的高效曝光。

双工件台的研发难度主要是控制方向,芯片的高精密性导致工件台的移动速度与移动距离都是微观层面的,这就需要在仿真算法与精密控制上有大量的研发投入。

“机会难得,所有人都要多学多看,华芯在半导体方面的技术深不见底,格局非常大,松江在建的光刻机生产线,外界都以为是笑话,这两天了解下来,是有真东西的,也许这是我们华卓的一个机会。”

朱易对团队成员吩咐道,软件方面有华芯九天,设计有睿芯,原料有硅片,现在连光刻机都在布局了,这盘棋非常大,后面没有国家的支持谁都不信。

双工件台与镜头组设计完成后,设备组开始组装光刻机,并更换升级配套的相关设备,要想升级成28纳米的双工件台DUV光刻机,不仅仅是组装一台光刻机而已,整体配套的设备与工艺优化工作量仍然巨大。

好在原先的生产线大部分都还能用,海思最近已经摸清这台90纳米的光刻机,拆卸还原过十几次,除了开始时卡住外最后几次都非常顺利。

这既有苏硅与申城微电子的工程师协助的原因,更多的是来自华微科学家本身的实力,在筛选时就已充分考虑过。

华芯、申城微电子、华卓,海思组成的联合研发团队,经过几十天高强度的联合攻坚,终于在2018年的最后一天完成了整个生产线的改造,把90纳米精度的DUV光刻机直接升级到28纳米浸没式双工件台DUV光刻机。

当然,现在是否成功还未知,净室外站满了人,廖老、路阳、周怀义、何洪年、朱易,来自各家的核心技术人员,所有人都在等着设备的开机。

路阳心中非常激动,看着净室里的光刻机,穿越回来快半年,能做到今天这步可以说是奇迹了,这奇迹一方面来源于系统,另一方面更多的是国家的支持,人力,财力,政策,技术背后都有无数人默默在付出。